鄭州偉創(chuàng)檢測(cè)設(shè)備有限公司
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品優(yōu)點(diǎn):不留殘余粘膠：從防粘盤(pán)上輕松取下帶背膠的砂紙或拋光布,不需要清理可重復(fù)使用，提高工作效率;節(jié)省設(shè)備費(fèi)用：只需一臺(tái)帶一個(gè)磨拋盤(pán)的磨拋機(jī),就能實(shí)現(xiàn)所有研磨...
產(chǎn)品型號(hào)：所在地：更新時(shí)間：2025-02-01 在線留言
詳細(xì)摘要： 二氧化硅拋光液均為優(yōu)選的磨料，制備工藝保證了高質(zhì)量的顆粒呈等積形狀；嚴(yán)格的分級(jí)工藝保證了實(shí)際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒 ，其粒度組成都高于普通標(biāo)準(zhǔn)的粒度范...
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詳細(xì)摘要： 針對(duì)于金相制樣時(shí)的黑色金屬及有色金屬粗拋和精拋。適用于半自動(dòng)或全自動(dòng)金相拋光機(jī)。該產(chǎn)品適用于大部分材料還廣泛用于光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、硅、鍺片、電腦硬盤(pán)、煤巖，陶...
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詳細(xì)摘要： 金相拋光潤(rùn)滑液在金相試驗(yàn)拋光過(guò)程中，為了得到更好的拋光效果，通常會(huì)選擇添加拋光潤(rùn)滑液，該產(chǎn)品專(zhuān)門(mén)針對(duì)樣品的拋光制程而開(kāi)發(fā)研制，具有潤(rùn)滑與冷卻的雙重效果。...
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詳細(xì)摘要： 納米級(jí)氧化鋁拋光粉可做金相拋光， 同時(shí)還適合不銹鋼鏡面拋光， 鈦金屬拋光， 鑄鐵拋 光， 鋁材鏡面拋光， 大理石石材鏡面拋光， 油漆拋光， 樹(shù)脂拋光， PCB ...
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詳細(xì)摘要： 氧化鋁拋光粉 該產(chǎn)品為高純度白色粉末，是金相試樣精拋材料。該產(chǎn)品具有以下**性能： 晶相穩(wěn)定、硬度高、顆粒小且分布均勻； 磨削力強(qiáng)、拋光快、光度亮、鏡面效果好；...
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詳細(xì)摘要： 金剛石研磨盤(pán)系列產(chǎn)品為金屬、玻璃、陶瓷、晶片金相制樣等平面研磨提供了一種操作簡(jiǎn)便、持久耐用、一致性好的研磨方案，使用過(guò)程可只加水或潤(rùn)滑冷卻液替代傳統(tǒng)研磨液，減少...
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詳細(xì)摘要： 金相磨平機(jī)專(zhuān)用砂輪，棱角鋒利,切削性能好,磨削熱量小，砂輪做工精細(xì)，使用壽命長(zhǎng)等特點(diǎn)。
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詳細(xì)摘要： 針對(duì)黑色金屬及有色金屬的特性我公司研制開(kāi)發(fā)的砥鋒牌干濕兩用金相砂紙，具有耐水性強(qiáng)，研磨鋒利、耐用，高光潔度等特點(diǎn)，可以在水中長(zhǎng)時(shí)間浸泡，而且可以在干燥的環(huán)境對(duì)各...
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn) 拋光更快速、簡(jiǎn)便、**，同時(shí)無(wú)污染，便于存放，大幅度的提高功效，降低成本，縮短拋光時(shí)間，減輕金相分析人員的勞動(dòng)強(qiáng)度，并且極真實(shí)地再現(xiàn)材料金相組織，可替...
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詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品特點(diǎn)快速拋光，使用方便,具有**，方便，無(wú)污染，不腐蝕等特點(diǎn),可替代進(jìn)口。
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詳細(xì)摘要： 金相拋光織物系列，針對(duì)于金相制樣時(shí)的粗拋和精拋。適用于半自動(dòng)或全自動(dòng)金相拋光機(jī)。該產(chǎn)品還廣泛用于光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、硅、鍺片、電腦硬盤(pán)、陶瓷等高精密表面拋光。
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詳細(xì)摘要： 金剛石懸浮拋光液采用高精度金剛石微粉及成熟的生產(chǎn)技術(shù),生產(chǎn)出的金剛石拋光液具有顆粒分布均勻,PH值呈中性,懸濁度好,拋光質(zhì)量穩(wěn)定,不含對(duì)人體有害成分,有利于環(huán)保...
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詳細(xì)摘要： 金相拋光織物系列，針對(duì)于金相制樣時(shí)的粗拋和精拋。適用于半自動(dòng)或全自動(dòng)金相拋光機(jī)。該產(chǎn)品還廣泛用于光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、硅、鍺片、電腦硬盤(pán)、陶瓷等高精密表面拋光。
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詳細(xì)摘要： 分散成穩(wěn)定的水性懸浮液， 適用于各種領(lǐng)域，新材料，新能源，集成電路、**設(shè)備制造，人工智能，金相，巖相，陶瓷以及寶石、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及...
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詳細(xì)摘要： 適用于半自動(dòng)或全自動(dòng)拋光機(jī)。該產(chǎn)品還廣泛用于光學(xué)、電子、半導(dǎo)體、硅、鍺片、電腦硬盤(pán)、煤巖，陶瓷等高精密表面拋光。
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